시설소개
개요
양의 기체이온을 가속한 뒤 시료 표면에 주입함으로써 물질의 고유 특성은 유지하면서 표면 특성만을 변화시키는 장치
이용분야
| 분야 | 내용 |
|---|---|
| 산업 | 고분자 표면 개질, 표면 세정, 초강력 코팅 증착 등 |
| 광학 | 광필름 증착, 광재료 개질 등 |
| 재료 | 기능성 재료 개발, 기계적 성질 개선, 필름 표면의 강도 변화 등 |
| 전자 | 반도체 처리, 전기전자 재료 이온 주입 등 |
제원
| 항목 | 내용 |
|---|---|
| 이온원 이온빔인출빔 인출에너지 | 0~20 keV |
| 가속관 이온빔 가속에너지 | 0~280 keV |
| 빔 전류 | 5 mA [N+ 기준] |
| 빔 조사 면적(mm) | 150×150 [균일도 ±10% 이내] |
| 이온 종류 | H, He, N, Ar, Kr, Xe, Ne 등 |